Bericht versturen
ZEIT Group 86-28-62156220-810 hua.du@zeit-group.com
Superhard Film Magnetron Sputtering Deposition System In Functional Film Field

Superhard filmmagnetron sputterend depositiesysteem in functioneel filmveld

  • Hoog licht

    Functioneel Filmveld Magnetron Sputterafzetting

    ,

    Superhard filmmagnetron sputtersysteem

    ,

    Functioneel Filmmagnetron sputtersysteem

  • Gewicht
    Aanpasbaar
  • Maat
    Aanpasbaar
  • Aanpasbaar
    Verkrijgbaar
  • Garantieperiode
    1 jaar of geval per geval
  • Verzend voorwaarden
    Over zee / door de lucht / multimodaal transport
  • Plaats van herkomst
    Chengdu, PRCHINA
  • Merknaam
    ZEIT
  • Certificering
    Case by case
  • Modelnummer
    MSC-FF-X-X
  • Min. bestelaantal
    1set
  • Prijs
    Case by case
  • Verpakking Details
    houten doos
  • Levertijd
    Geval voor geval
  • Betalingscondities
    T/T
  • Levering vermogen
    Geval voor geval

Superhard filmmagnetron sputterend depositiesysteem in functioneel filmveld

Magnetron sputterende afzetting in functioneel filmveld

 

 

toepassingen

    toepassingen     Specifiek doel     materiaal type
    Functionele folie     Superharde film     TiN, TiC

    Lichtdichte folie

    Cr, AlSi, AlTi, enz
    Resistieve folie       NiCrSi, CrSi, MoTa, enz
   Supergeleidende folie       YbaCuO, BiSrCaCuo
      Magnetische folie     Fe, Co, Ni, FeMn, FeNi, enz

 

Werkend principe

Er zijn veel soorten magnetronsputteren met verschillende werkingsprincipes en toepassingsobjecten.Maar daar

heeft één ding gemeen: het zorgt ervoor dat de elektronen in spiraalvormige banen dichtbij het doeloppervlak lopen door interactie tussen

magnetische en elektrische velden, waardoor de kans groter wordt dat ionen worden gegenereerd die afkomstig zijn van elektronen die argon raken.

De gegenereerde ionen raken vervolgens het doeloppervlak onder invloed van een elektrisch veld en sputteren de doelmaterialen.

 

Functies

  Model   MSC-FF-X-X
  Soort coating   Diverse diëlektrische films zoals metaalfilm, metaaloxide en AIN
  Coating temperatuurbereik   Normale temperatuur tot 500 ℃
  Coating vacuümkamer grootte   700 mm * 750 mm * 700 mm (aanpasbaar)
  Achtergrondvacuüm   < 5×10-7mbar
 Bekledingsdikte   ≥ 10nm
 Dikte controle precisie   ≤ ±3%
  Maximale coatingmaat  ≥ 100 mm (aanpasbaar)
  Uniformiteit van de filmdikte  ≤ ±0,5%
  Substraat drager   Met planetair rotatiemechanisme
  Doel materiaal  4 × 4 inch (compatibel met 4 inch en lager)
  Stroomvoorziening   De voedingen zoals DC, puls, RF, IF en bias zijn optioneel
 Proces gas   Ar, N2, O2
  Let op: Aangepaste productie mogelijk.

                                                                                                                

Coating monster

Superhard filmmagnetron sputterend depositiesysteem in functioneel filmveld 0

 

Processtappen

→ Plaats het te coaten substraat in de vacuümkamer;

→ Vacumeer grofweg;

→ Zet de moleculaire pomp aan, vacumeerop topsnelheid, zet dan de revolutie en rotatie aan;

→ Verwarming van de vacuümkamer totdat de temperatuur de bereiktdoelwit;

→ Implementeer de constante temperatuurregeling;

→ Schone elementen;

→ Omdraaien en terug naar de oorsprong;

→ Coatingfilm volgens procesvereisten;

→ Verlaag de temperatuur en stop de pompeenheid na het coaten;

→ Stoppen met werken wanneerde automatische werking is beëindigd.

 

Onze voordelen

Wij zijn fabrikant.

Volwassen proces.

Antwoord binnen 24 werkuren.

 

Onze ISO-certificering

Superhard filmmagnetron sputterend depositiesysteem in functioneel filmveld 1

 

 

Delen van onze octrooien

Superhard filmmagnetron sputterend depositiesysteem in functioneel filmveld 2Superhard filmmagnetron sputterend depositiesysteem in functioneel filmveld 3

 

 

Delen van onze onderscheidingen en kwalificaties van R&D

Superhard filmmagnetron sputterend depositiesysteem in functioneel filmveld 4Superhard filmmagnetron sputterend depositiesysteem in functioneel filmveld 5