ZEIT Group
86-28-62156220-810
hua.du@zeit-group.com
Vraag een offerte aan
描述
English
French
German
Italian
Russian
Spanish
Portuguese
Dutch
Greek
Japanese
Korean
Arabic
Hindi
Indonesian
Vietnamese
Persian
Polish
描述
Thuis
Categorieën
Optische coatingapparatuur
Optische testapparatuur
Fotomasker Substraat
Dubbele breking meetsysteem
Optische elementen
Afzettingsapparatuur voor atoomlagen
Magnetron sputterende coatingmachine
Detectieapparatuur voor oppervlaktedefecten
Magnetorheologische afwerkmachine
Apparatuur voor vlakheidsinspectie
Apparatuur voor oppervlakte-inspectie
Niet-standaard uitrusting
Geautomatiseerde productielijnoplossingen
Het Systeem van de laserinterferometer
Digitale Autocollimator
Interferometerlens
Producten
Middelen
Nieuws
Over ons
Bedrijfsprofiel
Fabrieksreis
Kwaliteitscontrole
Contacteer ons
Zoekresultaat (8)
Thuis
-
Producten
-
quartz photomask substrate
127 × 127 mm kwarts fotomaskersubstraat voor gebruik met flatpanelschermen
Slijpen Polijsten Verchromen 5280 Quartz Photomask Substraat 800 mm × 520 mm
350 × 300 mm kwartsfotomaskersubstraat voor de productie van geïntegreerde circuitchips
Micro-elektromechanische systemen 5009 kwartsfotomaskersubstraat 5 × 5 × 0,09 inch
Slijpen Polijsten Kwarts Fotomasker Substraat Voor FPD En Chip Gebruik
6 × 6 × 0,25 inch kwarts fotomaskersubstraat voor fotolithografieproces
152 × 152 mm FPD-fotomaskersubstraat voor micro-nano-fabricage
6 × 6 × 0,12 inch MEMS Chrome Photomask Substraat Photoresist Coating
Totaal 1 Pagina's
