6 inch × 6 inch × 0,12 inch kwartsfotomaskersubstraat voor chipgebruik
toepassingen
De gebieden van het fotolithografieproces, zoals de fabricage van geïntegreerde schakelingen, FPD (Flat Panel Display),
MEMS (Micro Elektromechanische Systemen), enz.
Werkend principe
Mask is een grafisch hoofdmasker dat veel wordt gebruikt bij fotolithografie van micro-nano-fabricage.De grafische structuur
wordt gevormd op een transparant substraat door een ondoorzichtig fotomasker en vervolgens wordt de grafische informatie overgebracht naar de
productsubstraat door middel van een belichtingsproces.
Functies
Fotomaskersubstraat voor chipgebruik
| Model / Materiaal | Maat | Verwerkingscapaciteit |
| 6012 / Kwarts | 6 inch × 6 inch × 0,12 inch | Slijpen, polijsten, verchromen, lijmen |
Processtroom
→ Detectie van grondstoffen;
→ Ruw slijpen;
→ Ruw polijsten;
→ Maskerreiniging;
→ Prestatie-inspectie van grondstoffen;
→ Geplateerd door chroom;
→ Testen van maskerprestaties;
→ Fotoresist-coating;
→ Verpakking;
→ Transporteren.
Onze voordelen
Wij zijn fabrikant.
Volwassen proces.
Antwoord binnen 24 werkuren.
Onze ISO-certificering
Delen van onze octrooien
Delen van onze onderscheidingen en kwalificaties van R&D
Onze producten worden over de hele wereld verkocht. U kunt gerust zijn op het hele proces van onze producten.
