Atoom de Laagdeposito van ALD
Toepassingen
| Toepassingen | Specifiek Doel | Het Materiële Type van ALD |
| MEMS-apparaten | De laag van de etsbarrière | Al2O3 |
| Beschermende laag | Al2O3 | |
| Anti-plakt laag | TiO2 | |
| Hydrophobic laag | Al2O3 | |
| Laag plakkend | Al2O3 | |
| Slijtvaste laag | Al2O3, TiO2 | |
| Anti-korte kringslaag | Al2O3 | |
| De laag van de lastendissipatie | ZnO: Al | |
| Electroluminescent vertoning | Lichtgevende laag | ZnS: Mn/ER |
| Passiveringslaag | Al2O3 | |
| Opslagmaterialen | Ferroelectric materialen | HfO2 |
| Paramagnetische materialen | GD2O3, ER2O3, Dy₂O₃, Ho2O3 | |
| Niet-magnetische koppeling | Ru, IRL | |
| Elektroden | Edele metalen | |
| Aanleidinggevende koppeling (ICP) | Hoog-k poort diëlektrische laag | HfO2, TiO2, Ta2O5, ZrO₂ |
| Kristallijne silicium zonnebatterij | Oppervlaktepassivering | Al2O3 |
| Perovskite thin-film batterij | Bufferlaag | ZnxMnyO |
| Transparante het leiden laag | ZnO: Al | |
| 3D verpakking | Door-silicium-Vias (TSVs) | Cu, Ru, Tin |
| Lichtgevende toepassing | OLED-passiveringslaag | Al2O3 |
| Sensoren | Passiveringslaag, vullermaterialen | Al2O3, SiO2 |
| Medische behandeling | Biocompatibele materialen | Al2O3, TiO2 |
| De laag van de corrosiebescherming | De beschermingslaag van de oppervlaktecorrosie | Al2O3 |
| Brandstofbatterij | Katalysator | PT, Pd, Relatieve vochtigheid |
| Lithiumbatterij | Laag van de elektroden de materiële bescherming | Al2O3 |
| Harde schijf lees-schrijfhoofd | Passiveringslaag | Al2O3 |
| Decoratieve deklaag | Gekleurde film, gemetalliseerde film | Al2O3, TiO2 |
| Anti-verkleuringsdeklaag | De deklaag van de edel metaalantioxidatie | Al2O3, TiO2 |
| Optische films | High-low r.i. |
MgF2, SiO2, ZnS, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2 |
Het werk Principe
Het atoomlaagdeposito (ALD) is een methode om de substanties op de oppervlakte van substraat in te deponeren
vorm van enige atoomfilmlaag door laag. Het atoomlaagdeposito is gelijkaardig aan gemeenschappelijk chemisch deposito,
maar tijdens atoomlaagdeposito, direct is de chemische reactie van een nieuwe laag van atoomfilm
geassocieerd met de vorige laag, zodat slechts één laag atomen in elke reactie met deze methode wordt gedeponeerd.
Eigenschappen
| Model | ALD1200-500 |
| Het met een laag bedekken van filmsysteem | AL2O3, TiO2, ZnO, enz. |
| De waaier van de deklaagtemperatuur | Normale temperatuur aan (Klantgerichte) 500℃ |
| De grootte van de deklaagluchtledige kamer | Binnendiameter: 1200mm, Hoogte: 500mm (Klantgericht) |
| Luchtledige kamerstructuur | Volgens de eisen van de klant |
| Achtergrondvacuüm | <5>-7mbar |
| Deklaagdikte | ≥0.15nm |
| De precisie van de diktecontrole | ±0.1nm |
| Deklaaggrootte | 200×200mm ²/400×400mm ²/1200×1200 mm ², enz. |
| De uniformiteit van de filmdikte | ≤±0.5% |
| Voorloper en Draaggas |
Trimethylaluminium, titaniumtetrachloride, diethyl zink, zuiver water, stikstof, enz. (Al van C ₃ H ₉, TiCl4, C ₄ HZn, H2O, N₂, enz.) |
| Nota: Aangepaste beschikbare productie. | |
Deklaagsteekproeven
Processtappen
→ Plaats het substraat voor deklaag in de luchtledige kamer;
→ Vacuumize de luchtledige kamer bij hoge en lage temperatuur, en roteert synchroon het substraat;
→ Begindeklaag: het substraat wordt gecontacteerd met voorloper de één na de ander en zonder gelijktijdige reactie;
→ Zuivering het met high-purity stikstofgas na elke reactie;
→ Houd op roterend het substraat nadat de filmdikte tot norm en de verrichting van het zuiveren is en
het koelen wordt voltooid, dan neemt het substraat nadat de vacuüm brekende voorwaarden met. zijn.
Onze Voordelen
Wij zijn fabrikant.
Rijp proces.
Antwoord binnen 24 werkuren.
Onze ISO-Certificatie
Delen van Onze Octrooien
Delen van Onze Toekenning en Kwalificaties van R&D
ZEIT groepeert zich, opgericht in 2018, is een bedrijf concentreerde zich op precisieoptica, halfgeleidermaterialen en high-tech intelligentieuitrusting. Gebaseerd op onze voordelen in precisie het machinaal bewerken van kern en het scherm, optische opsporing en deklaag, ZEIT-heeft de Groep onze klanten van volledige pakketten van aangepaste en gestandaardiseerde productoplossingen voorzien.
Geconcentreerd op technologische innovaties, ZEIT-wereldwijd heeft de Groep meer dan 60 binnenlandse octrooien tegen 2022 en gevestigde zeer dichte onderneming-universiteit-onderzoek samenwerking met instituten, universiteiten en industriële vereniging. Door innovaties, zelf-bezeten intellectuele eigendommen en het opbouwen van de belangrijkste proces experimentele teams, ZEIT-is de Groep een ontwikkelingsbasis voor het uitbroeden van high-tech producten en een opleidingsbasis voor high-end personnels geworden.
Onze producten worden over de hele wereld verkocht. U kunt gerust zijn op het hele proces van onze producten.
